愛姆加電子設(shè)備
勻膠顯影蝕刻專用設(shè)備生產(chǎn)商
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濕法清洗、蝕刻機(jī)
發(fā)布時間: 2020-03-25 17:17
用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝，
根據(jù)客戶要求訂制不同的酸堿機(jī)槽
型號：Ｍ+-E150
主要用途：
用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴(kuò)散前、CMP后、氧化前及光刻后等關(guān)鍵工藝的清洗。
我公司可生產(chǎn)手動、半自動及全自動刻蝕、清洗設(shè)備，以滿足2?--8?晶片各種工藝需求。
蝕刻機(jī)型： 半自動蝕刻清洗、全自動蝕刻清洗
控制模式： 手動控制模式 ,自動控制模式；
清洗能力： 單片2-8inch，或cassette/ Batch，（25 Pcs/cassette）
工藝說明： 機(jī)械傳動，自動方式實(shí)現(xiàn)槽體間傳送工件；
腐蝕工藝自動補(bǔ)藥液保證了工藝槽在運(yùn)行過程中濃度的穩(wěn)定性；
工藝參數(shù)（藥液溫度、時間、DIW水清洗模式、時間可調(diào)）手動由觸摸屏界面可設(shè)定；
全程自動化控制，工藝過程中沒有人工干預(yù)，保證產(chǎn)品性能的一致性；
清洗液為有機(jī)溶劑，設(shè)備操作臺面工位；按客戶要求設(shè)計并可選配CO2在線式滅火器。
中國西安市未央?yún)^(qū)石化大道南徐寨工業(yè)園愛姆加電子
15891750928 / 029-8362-7399
51252494@qq.com
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