半導(dǎo)體清洗工藝

2024-10-24

清洗工藝主要是去除晶圓表面污染物，保持晶圓潔凈度和電性能。

了解濕法刻蝕工藝的“三酸”

2024-08-19

芯片的誕生

2024-08-15

指甲蓋大小的芯片有多少個(gè)晶體管呢？芯片制造中的前工序和后工序分別有哪些呢？精密的芯片制造過(guò)程？

濕法腐蝕清洗

2024-08-02

分享半導(dǎo)體工藝中的濕法刻蝕，主要包括刻蝕各種材料的刻蝕液介紹等

勻膠顯影工藝

2024-08-01

影響勻膠顯影技術(shù)工藝的因素

熱板與冷板的作用？

2024-07-29

Track中的熱板（HP）與冷板（CP）的作用是什么？分別有幾個(gè)？track是什么？

勻膠時(shí)光刻膠的溶劑是如何變化的？

2024-07-26

從勻膠到軟烘，光刻膠中的溶劑是在不斷減少的，那么請(qǐng)問(wèn)溶劑是如何變化的，涉及到哪些原理?

勻膠時(shí)旋涂速度對(duì)膠層的影響（下）

2024-07-25

旋轉(zhuǎn)式勻膠工藝薄膜與速度間的關(guān)系

晶圓與芯片

2024-07-22

勻膠旋涂速度對(duì)膠層的影響

2024-07-19

旋轉(zhuǎn)式勻膠工藝速度與膜厚間的關(guān)系