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勻膠顯影蝕刻專用設(shè)備生產(chǎn)商

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全自動去膠剝離機(jī)

濕法蝕刻/剝離機(jī)

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NMP液體--高溫高壓  DMSO液體--高溫高壓去膠剝離機(jī) 半導(dǎo)體工藝中的撕金剝離工藝 功能有：浸泡槽-高壓腔-清洗腔 浸泡槽功能有：加熱-超聲-晃動功能 高壓腔：在線加熱，常壓噴嘴 清洗腔：可選超聲波功能，BRUSH功能
單片晶圓腐蝕濕刻機(jī)

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全自動蝕刻機(jī)： 單片晶圓蝕刻設(shè)備不僅能夠甚至在產(chǎn)生氣體(蝕刻反應(yīng)的副產(chǎn)品)的情 況下通過振動所述晶圓來排放氣體，并且還可防止所述氣體吸附在所 述晶圓的表面上。
濕法清洗、蝕刻機(jī)

濕法蝕刻/剝離機(jī)

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用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝， 根據(jù)客戶要求訂制不同的酸堿機(jī)槽
激光陀螺化拋機(jī)

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本設(shè)備主要用于激光陀螺儀化學(xué)拋光機(jī)， 可以分別控制每個入口的壓力流量 每個管路的壓力及流量分別可調(diào)。
槽式電鍍設(shè)備

濕法蝕刻/剝離機(jī)

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用于6inch及以下尺寸各種襯底如硅片、化合物半導(dǎo)體晶片（GaAs,InP等）、玻璃片和陶瓷片等進(jìn)行電鍍金工藝 鍍膜設(shè)備功能基本配置都有，可選 具體的工藝需要打樣才可確定 電源也是根據(jù)不同的金屬材料可選 ......
PP焊接槽

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濕法腐蝕清洗槽加工，來圖就可以加工，質(zhì)量保證，時效保證 根據(jù)不同的液體選擇不同材料的槽體材料。 進(jìn)口努士領(lǐng)材料，質(zhì)量過關(guān)，供參考。

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