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此設備適應于方形基片尺寸為□1500×1200×8-20mm（厚度范圍：8.-20mm）的玻璃基片勻膠 工藝，手動放置基片，自動完成基片甩膠、勻膠工藝。

 超大尺寸勻膠設備 M+/1500-Ｃ，主要用于完成基片光阻涂布工藝。設備可分別配置主軸旋轉裝置、 光阻供液系統（腔體清洗液）、排風系統、上料裝置、控制部份等；

設備具有如下特點： 占地面積相對較小，適應范圍廣。

 具備故障診斷，歷史記錄追憶功能。 操作界面簡捷，配方編制、儲存、編輯、調用靈活。 整機采用框架結構，工作方式為手動上下基片，

自動完成邊緣清洗工藝。 設備依 GB/T19001-2008 ；GB/T24001-2004；GB/T28001-2001；SEMI SⅡ標準制造。