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勻膠機又稱甩膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂膠機、旋轉涂布機主要用于晶片涂光刻膠用或溶膠-凝膠實驗中的薄膜制備。

勻膠機的基本原理是在高速旋轉的基片上，

滴注各類膠液利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，膜的厚度與膠液的粘稠度、膠液與基片間的粘滯系數、轉數、旋涂時間都有關系

一般情況下，轉速在2000rpm以上時就可以使絕大多數的膠體均勻分布，主軸轉速的穩定性和重復性是決定膠膜厚度均勻性和一致性的關鍵，。

勻膠機主要應用于微機電系統的微加工、生物、材料、半導體、制版、新能源、薄膜、光學及表面涂覆等領域或樣件較小無法使用提拉涂膜或刮膜的方式進行涂膜的基片的涂膜。

通常固定樣品的方式有兩種：真空吸盤固定樣品、帶卡槽的樣品盤固定樣品。用真空吸盤固定樣品時需要有抽真空的裝置，真空吸附適用于固定表面光滑，平整度好，受真空吸力不變形的基片；

帶卡槽的樣品盤可用于質軟、形狀不規則的、尺寸較大的基片的固定。