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以下是針對此基片的涂布效果的測量數(shù)據(jù)圖：

同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：同時(shí)旋涂后的均勻性指標(biāo)直徑在200mm范圍內(nèi)的晶片，均勻性指標(biāo)基本在2％之內(nèi)，以下我公司針對異形基片涂布前的分析仿真圖：