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按照刻蝕方式和所使用的物質不同，刻蝕可以分為干法刻蝕和濕法刻蝕兩類。

濕法刻蝕： (Wet Etch)是一個純粹的化學反應過程，是指將待刻蝕材料浸泡在腐蝕液內進行腐蝕的技術。

優點:設備簡單、重復性好、成本低、刻蝕速度快、生產效率高；

缺點:具有各向同向，橫向刻蝕的寬度接近垂直刻蝕的深度，光刻膠下面會有刻蝕液的滲入，導致鉆刻嚴重，對圖形的控制性較差，不能用于小的特征尺寸，很難處理非常精細的電路圖:會產生大量的化學廢液；

因為濕法刻蝕存在不容忽視的刻蝕偏差，所以一般用于晶圓磨片、拋光、清洗等環節。