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歡迎您來到愛姆加電子設備有限公司官網(wǎng)，我們將竭誠為您服務！

愛姆加電子設備

半導體勻膠顯影清洗蝕刻設備生產(chǎn)商

誠信創(chuàng)新

精工

專注

專注成就品質(zhì)，品質(zhì)塑造未來！

Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！

先進的技術研發(fā)團隊

M+公司簡介

愛姆加電子設備有限公司從事半導體工藝設備的設計、生產(chǎn)。產(chǎn)品系列有：勻膠機、顯影機、半自動勻膠顯影機、全自動勻膠顯影機、全自動顯影機、半自動涂膠顯影機、半導體噴膠機、槽式（Wet Bench）及單片(Single Wafer)蝕刻_剝離_清洗設備、清洗甩干機、熱板烘烤（Hot Plate）、自動涂膠顯影機、自動砂輪劃片切割等設備；以及開發(fā)研制、升級換代、維修服務。

公司擁有一批多年從事半導體設備的機械、電氣、光學、計算機、以及從事半導體工藝線生產(chǎn)的專業(yè)的高中級工程技術人員，擁用CAD計算機網(wǎng)絡開發(fā)系統(tǒng)-FAB的MES等管理軟件，各類檢測儀器等的設計手段。

公司向用戶提供下列產(chǎn)品：

產(chǎn)品適用范圍?

二手設備維修翻新業(yè)務?

公司提供二手機臺：全自動勻膠機TEL/DNS、MARK-V\VZ、MARK7/8、ACT8等廠商設備的備品、備件及應用材料的CMP設備維修翻新業(yè)務。

產(chǎn)品廣泛應用于半導體、太陽能MICROLEDMINILED、MEMS、 PUMPING工藝、平板顯示及PHOTO-MASK等產(chǎn)品的清洗、濕法刻蝕、薄膜旋涂、噴涂、顯影、傳統(tǒng)后道封裝工藝。

全自動涂膠機

全自動砂輪劃片機

半導體清洗機、刻蝕機

方片勻膠機、顯影機、清洗機

激光陀螺儀化學拋光機

2-12英寸的全自動勻膠機、顯影機
超聲波焊機
半導體噴機
單片蝕刻機、自動剝離機（NMP/DMSO)
CMP化學拋光設備的翻新

——— Product ———

產(chǎn)品中心

勻膠顯影設備

超聲噴膠設備

槽式清洗設備

剝離撕金設備

高溫熱板設備

備品備件

代理產(chǎn)品

濺射設備代理產(chǎn)品

全自動勻膠顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:2000000.00

價格:2000000.00

Wafer Size: 2-12英寸（兼容尺寸依據(jù)客戶晶圓尺寸可選） 全自動勻膠顯影一體機設備和各工位全封閉設計，不受外環(huán)境干擾設備實現(xiàn)2"-12"晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模  (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能，排風自動調(diào)節(jié)（可選）
6/8英寸全自動勻膠顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:1500000.00

價格:1500000.00

Wafer Size: 2-12英寸（兼容尺寸依據(jù)客戶晶圓尺寸可選） 全自動勻膠顯影一體機設備和各工位全封閉設計，不受外環(huán)境干擾設備實現(xiàn)2"-12"晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模  (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能，排風自動調(diào)節(jié)（可選）
12英寸自動勻膠顯影機－愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:3000000.00

價格:3000000.00

Pumping封裝、3D-TSV、MEMS、OLED等領域PR工藝涂膠膠顯影 Wafer Size: 12英寸全自動勻膠顯影一體機設備和各工位全封閉設計，不受外環(huán)境干擾晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模       (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能，排風自動調(diào)節(jié)（可選）
半自動涂膠顯影機－愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:500000.00

價格:500000.00

晶圓尺寸：2-12英寸可選 功能：手動上下取片、其他工藝自動完成自動滴膠、甩膠、勻膠 光刻機供膠系統(tǒng)：膠路可選配（需前提告知膠粘度） EBR清洗-BSR清洗功能選配 可選配高效FFU功能 晶片固定方式有：機械夾所持與真空吸附
全息光柵方形基片涂膠機

全息光柵勻膠/顯影機

市場價:20000000.00

價格:20000000.00

方形基片勻膠機，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機） 大尺寸玻璃片勻膠機、方形基片顯影機等勻膠、顯影、清洗工藝 大尺寸的玻璃以及厚度在20MM以內(nèi)的基片 光刻膠及化學藥液的供給系統(tǒng)可選
彎月面涂膠機(狹縫式涂布機）

全息光柵勻膠/顯影機

市場價:50000000.00

價格:50000000.00

彎月牙涂膠基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm) 供膠系統(tǒng)及膠液裝置為移動部件 玻璃及被涂物品為固定不變 移動速度及高度差均可調(diào)
方形基片半自動顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:20000000.00

價格:20000000.00

半自動顯影設備M+/D450-40，主要用于完成基片顯影工藝。 方形基片勻膠機，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機） 大尺寸玻璃片勻膠機、方形基片顯影機等勻膠、顯影、清洗工藝 大尺寸的玻璃以及厚度在20MM以內(nèi)的基片 光刻膠及化學藥液的供給系統(tǒng)可選
勻膠機-愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:500000.00

價格:500000.00

勻膠機-針對實驗室勻膠機立柜式勻膠機可選配自動滴膠以及加有上蓋的防濺功能 主軸轉速： 200～8000RPM精度±1RPM，轉速可調(diào)

新開發(fā)產(chǎn)品

大尺寸勻膠機

新開發(fā)設備

市場價:0.00

價格:0.00

勻膠機可以實現(xiàn)尺寸500mm×500mm×50mm藍寶石玻璃基底光刻膠旋涂膜層的形成
半自動清洗機

新開發(fā)設備

市場價:0.00

價格:0.00
半導體晶圓清洗機

新開發(fā)設備

市場價:0.00

價格:0.00

基本尺寸規(guī)格：4/6/8寸標準晶圓，晶圓厚度80-100um RCW清洗設備的生產(chǎn) APM1#液去表面顆粒及金屬雜質(zhì) HPM2#液去金屬粒子 設排風風壓檢測 控制系統(tǒng)采用PLC控制，可通過通信協(xié)議指令控制 整機元器件通過CE,CCC,或UL認證，性能可靠穩(wěn)定
小型精密狹縫涂布機

新開發(fā)設備

市場價:0.00

價格:0.00

高精度狹縫式涂布機是在不同剛性或柔性基材上制備涂布工藝的理性選擇。無論是需要進行納米級及亞微米級功能性涂層的涂布試驗還是墨水調(diào)試、工藝研究、小規(guī)模制樣研發(fā)等還是大面積涂布制備，狹縫涂布機都能提供高效精準的數(shù)據(jù)獲取和分析能力。