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歡迎您來到愛姆加電子設(shè)備有限公司官網(wǎng)，我們將竭誠為您服務(wù)！

愛姆加電子設(shè)備

半導(dǎo)體勻膠顯影清洗蝕刻設(shè)備生產(chǎn)商

誠信創(chuàng)新

精工

專注

專注成就品質(zhì)，品質(zhì)塑造未來！

Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！

先進(jìn)的技術(shù)研發(fā)團(tuán)隊

M+公司簡介

愛姆加電子設(shè)備有限公司從事半導(dǎo)體工藝設(shè)備的設(shè)計、生產(chǎn)。產(chǎn)品系列有：勻膠機(jī)、顯影機(jī)、半自動勻膠顯影機(jī) 、全自動勻膠顯影機(jī)、全自動顯影機(jī)、半自動涂膠顯影機(jī)、半導(dǎo)體噴膠機(jī)、槽式（Wet Bench）及單片(Single Wafer)蝕刻_剝離_清洗設(shè)備、清洗甩干機(jī)、熱板烘烤（Hot Plate）、自動涂膠顯影機(jī)、自動砂輪劃片切割等設(shè)備；以及開發(fā)研制、升級換代、維修服務(wù)。

公司擁有一批多年從事半導(dǎo)體設(shè)備的機(jī)械、電氣、光學(xué)、計算機(jī)、以及從事半導(dǎo)體工藝線生產(chǎn)的專業(yè)的高中級工程技術(shù)人員，擁用CAD計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)開發(fā)系統(tǒng)-FAB的MES等管理軟件，各類檢測儀器等的設(shè)計手段。

公司向用戶提供下列產(chǎn)品：

產(chǎn)品適用范圍?

二手設(shè)備維修翻新業(yè)務(wù)?

公司提供二手機(jī)臺：全自動勻膠機(jī)TEL/DNS、MARK-V\VZ、MARK7/8、ACT8等廠商設(shè)備的備品、備件及應(yīng)用材料的CMP設(shè)備維修翻新業(yè)務(wù)。

產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能MICROLEDMINILED、MEMS、 PUMPING工藝、平板顯示及PHOTO-MASK等產(chǎn)品的清洗、濕法刻蝕、薄膜旋涂、噴涂、顯影、傳統(tǒng)后道封裝工藝。

全自動涂膠機(jī)

全自動砂輪劃片機(jī)

半導(dǎo)體清洗機(jī)、刻蝕機(jī)

方片勻膠機(jī)、顯影機(jī)、清洗機(jī)

激光陀螺儀化學(xué)拋光機(jī)

2-12英寸的全自動勻膠機(jī)、顯影機(jī)
超聲波焊機(jī)
半導(dǎo)體噴機(jī)
單片蝕刻機(jī)、自動剝離機(jī)（NMP/DMSO)
CMP化學(xué)拋光設(shè)備的翻新

——— Product ———

產(chǎn)品中心

勻膠顯影設(shè)備

超聲噴膠設(shè)備

槽式清洗設(shè)備

剝離撕金設(shè)備

高溫?zé)岚逶O(shè)備

備品備件

代理產(chǎn)品

濺射設(shè)備代理產(chǎn)品

全自動勻膠顯影機(jī)

自動勻膠顯影機(jī)/自動清洗機(jī)

市場價:2000000.00

價格:2000000.00

Wafer Size: 2-12英寸（兼容尺寸依據(jù)客戶晶圓尺寸可選） 全自動勻膠顯影一體機(jī)設(shè)備和各工位全封閉設(shè)計，不受外環(huán)境干擾設(shè)備實現(xiàn)2"-12"晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模  (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復(fù)功能,以及故障排除功能，排風(fēng)自動調(diào)節(jié)（可選）
6/8英寸全自動勻膠顯影機(jī)

自動勻膠顯影機(jī)/自動清洗機(jī)

市場價:1500000.00

價格:1500000.00

Wafer Size: 2-12英寸（兼容尺寸依據(jù)客戶晶圓尺寸可選） 全自動勻膠顯影一體機(jī)設(shè)備和各工位全封閉設(shè)計，不受外環(huán)境干擾設(shè)備實現(xiàn)2"-12"晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模  (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復(fù)功能,以及故障排除功能，排風(fēng)自動調(diào)節(jié)（可選）
12英寸自動勻膠顯影機(jī)－愛姆加電子

自動勻膠顯影機(jī)/自動清洗機(jī)

市場價:3000000.00

價格:3000000.00

Pumping封裝、3D-TSV、MEMS、OLED等領(lǐng)域PR工藝涂膠膠顯影 Wafer Size: 12英寸全自動勻膠顯影一體機(jī)設(shè)備和各工位全封閉設(shè)計，不受外環(huán)境干擾晶圓涂膠（SPIN COATING）-顯影模       (SPIN DEV)-OVEN單元（冷熱板及增粘功能可選）同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行自帶暫停/恢復(fù)功能,以及故障排除功能，排風(fēng)自動調(diào)節(jié)（可選）
半自動涂膠顯影機(jī)－愛姆加電子

自動勻膠顯影機(jī)/自動清洗機(jī)

市場價:500000.00

價格:500000.00

晶圓尺寸：2-12英寸可選 功能：手動上下取片、其他工藝自動完成自動滴膠、甩膠、勻膠 光刻機(jī)供膠系統(tǒng)：膠路可選配（需前提告知膠粘度） EBR清洗-BSR清洗功能選配 可選配高效FFU功能 晶片固定方式有：機(jī)械夾所持與真空吸附
全息光柵方形基片涂膠機(jī)

全息光柵勻膠/顯影機(jī)

市場價:20000000.00

價格:20000000.00

方形基片勻膠機(jī)，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機(jī)） 大尺寸玻璃片勻膠機(jī)、方形基片顯影機(jī)等勻膠、顯影、清洗工藝 大尺寸的玻璃以及厚度在20MM以內(nèi)的基片 光刻膠及化學(xué)藥液的供給系統(tǒng)可選
彎月面涂膠機(jī)(狹縫式涂布機(jī)）

全息光柵勻膠/顯影機(jī)

市場價:50000000.00

價格:50000000.00

彎月牙涂膠基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm) 供膠系統(tǒng)及膠液裝置為移動部件 玻璃及被涂物品為固定不變 移動速度及高度差均可調(diào)
方形基片半自動顯影機(jī)

自動勻膠顯影機(jī)/自動清洗機(jī)

市場價:20000000.00

價格:20000000.00

半自動顯影設(shè)備M+/D450-40，主要用于完成基片顯影工藝。 方形基片勻膠機(jī)，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機(jī)） 大尺寸玻璃片勻膠機(jī)、方形基片顯影機(jī)等勻膠、顯影、清洗工藝 大尺寸的玻璃以及厚度在20MM以內(nèi)的基片 光刻膠及化學(xué)藥液的供給系統(tǒng)可選
勻膠機(jī)-愛姆加電子

自動勻膠顯影機(jī)/自動清洗機(jī)

市場價:500000.00

價格:500000.00

勻膠機(jī)-針對實驗室勻膠機(jī)立柜式勻膠機(jī)可選配自動滴膠以及加有上蓋的防濺功能 主軸轉(zhuǎn)速： 200～8000RPM精度±1RPM，轉(zhuǎn)速可調(diào)

新開發(fā)產(chǎn)品

大尺寸勻膠機(jī)

新開發(fā)設(shè)備

市場價:0.00

價格:0.00

勻膠機(jī)可以實現(xiàn)尺寸500mm×500mm×50mm藍(lán)寶石玻璃基底光刻膠旋涂膜層的形成
半自動清洗機(jī)

新開發(fā)設(shè)備

市場價:0.00

價格:0.00
半導(dǎo)體晶圓清洗機(jī)

新開發(fā)設(shè)備

市場價:0.00

價格:0.00

基本尺寸規(guī)格：4/6/8寸標(biāo)準(zhǔn)晶圓，晶圓厚度80-100um RCW清洗設(shè)備的生產(chǎn) APM1#液去表面顆粒及金屬雜質(zhì) HPM2#液去金屬粒子 設(shè)排風(fēng)風(fēng)壓檢測 控制系統(tǒng)采用PLC控制，可通過通信協(xié)議指令控制 整機(jī)元器件通過CE,CCC,或UL認(rèn)證，性能可靠穩(wěn)定
小型精密狹縫涂布機(jī)

新開發(fā)設(shè)備

市場價:0.00

價格:0.00

高精度狹縫式涂布機(jī)是在不同剛性或柔性基材上制備涂布工藝的理性選擇。無論是需要進(jìn)行納米級及亞微米級功能性涂層的涂布試驗還是墨水調(diào)試、工藝研究、小規(guī)模制樣研發(fā)等還是大面積涂布制備，狹縫涂布機(jī)都能提供高效精準(zhǔn)的數(shù)據(jù)獲取和分析能力。